7075铝管工作电压为1.4V时，最佳抛光液配方是浓磷酸+浓硫酸+乳酸(V_(浓磷酸)：V_(浓硫酸)：V_(乳酸)为4：8：3，)+15％丁二酮肟，最适宜的抛光温度为60℃。在此工艺条件下，可以将NiW合金基带原始表面的粗糙度Rms由54.72nm降低到11.382nm，抛光效果良好。 7075铝管的研究工作为进一步研究超导材料NiW合金基带表面电化学抛光工艺和开发新的抛光液提供了一些基础性研究资料，将对超导材料NiW合金基带表面电化学抛光技术的研究具有一定的促进作用。

多采用轧辊轧制方法制备立方织构NiW合金带材，以此作为涂层导体(YBCO)的基带，但是由于国内轧制工艺水平的限制，轧制而成的基带表面质量尤其是粗糙度无法满足RABiTS工艺的要求而不能直接使用，必须经过表面抛光降低基带表面粗糙度。因此，7075铝管开发新的电化学抛光技术，研究具有实用价值的电化学抛光液配方，是电化学抛光研究的重要课题。本论文主要研究超导材料涂层导体(YBCO)NiW合金基带表面的电化学抛光工艺，为其应用于实际生产开展基础性研究。 本论文由绪论和研究报告两部分组成。

7075铝管第一部分为绪论，介绍了电化学抛光的基本原理、抛光过程、基本理论、影响因素及其优点和金属表面粗糙度评价指标等内容，综述了电化学抛光技术的新进展，并简要介绍了该论文的研究目的。 第二部分为研究报告，采用线性扫描伏安法测量了NiW合金在不同条件下的阳极极化曲线，并依据阳极极化曲线研究了NiW合金在不同抛光条件下的阳极极化行为：通过初步实验，选择了影响NiW合金基带电化学抛光的因素及其水平；根据选定因素及其水平，按照正交L_9(3~4)正交表安排的方案进行电化学抛光实验，利用原子力显微镜对抛光结果进行表征，对超导(YBCO)涂层导体NiW合金基带表面的电化学抛光工艺进行考察和优化。经过分析讨论最终选定了超导材料NiW合金基带表面电化学抛光工艺适宜条件。

7075铝管另一方面,我们也需要在设计阶段考虑CMP的可制造性问题,研究基于考虑抛光平整度的版图模式优化技术,如哑元金属填充方法(Dummy Fill)等,从而使制造出的芯片具有更高的成品率。本博士论文的工作主要针对以上两方面展开研究。7075铝管的主要贡献如下：1.化学机械抛光工艺建模和仿真方法 本文提出了一种全新的基于广义粗糙抛光垫模型的化学机械抛光工艺仿真方法。相比于已有的CMP物理模型,广义粗糙抛光垫模型具有以下优点：1)采用高度分布函数和自相关函数等统计特性来描述抛光垫的粗糙表面,相比于传统的基于Greenwood-Williamson等统计接触理论的CMP模型,本模型的输入参数具有更加明确的物理定义,且更易于通过实际测量获得。